產品服務 : 生產製作奈米壓印應用的矽晶模具。依據客戶的需求，達慧繪製可生產的奈米圖形，並製作高精度的矽晶奈米模具。 模具本身為高品質、高平坦度的矽單晶，利用先進的微影技術與電漿蝕刻，製作出各種設計的模具。 奈米圖型可為點狀、現狀或其他特殊形狀週期性排列的圖形。
	技術規格 : 蝕刻深度範圍為100奈米到 800奈米之間 。 以不同製程世代提供不同的圖形的最小間距 : 標準製程：最小線寬(width)與間距(spacing) = 500nm / 500nm，最小Pitch=1.0um 。 進階製程：最小線寬(width)與間距(spacing) = 250nm / 250nm，最小Pitch=500nm 。 高階製程：最小線寬(width)與間距(spacing) = 180nm / 180nm，最小Pitch=360nm 。 N135製程：最小線寬(width)與間距(spacing) = 135nm / 135nm，最小Pitch=270nm 。 深刻製程：最小線寬(width)與間距(spacing) = 500nm / 500nm ，深度可達5um 。 特殊規格請洽本公司技術服務人員。

	LED luminance enhancement .
	Anti-reflection improvement .
	Reshape of E-field(or current) distribution .
	Micro-fluid chip, Electrophoresis .
	MEMS, sensor and detector .
	Optical and Semiconductor Device Engineering .

Convex (pillar pattern)

Concave (hole pattern)

Deep Trench (Hole Pattern)

Deep Trench (Line Pattern)

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